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 HMDS預(yù)處理真空干燥機(jī)真空鍍膜機(jī)涂膠烤箱
關(guān)鍵詞:HMDS真空干燥機(jī)  HMDS烘箱  HMDS涂膠烤箱  HMDS真空烘箱
產(chǎn)品名稱: HMDS預(yù)處理真空干燥機(jī)真空鍍膜機(jī)涂膠烤箱
產(chǎn)品編號: PVD-090-HMDS
產(chǎn)品商標(biāo): TATUNG
產(chǎn)品規(guī)格: 450X450X450
參考價格: 面議
更新日期: 2025/4/8 15:21:05
被閱次數(shù): 246次
 

公司名稱:上海實貝儀器設(shè)備廠
會員級別:免費會員

詳細(xì)說明  
HMDS預(yù)處理真空干燥機(jī)真空鍍膜機(jī)涂膠烤箱
制造商:上海實貝儀器設(shè)備廠

HMDS預(yù)處理真空烘箱

一、HMDS 預(yù)處理系統(tǒng)的必要性:

在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中,光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個工藝環(huán)節(jié),涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量,涂膠工藝顯得更為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的,而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的,這造成光刻膠和硅片的黏合性較差,尤其是正膠,顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處,容易造成漂條、浮膠等,導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗,同時濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后,經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷涫杷珊芎玫嘏c光刻膠結(jié)合,起著偶聯(lián)劑的作用。

二、產(chǎn)品特點:

 1)設(shè)備外殼采用醫(yī)用級不銹鋼316L不銹鋼材質(zhì)制作,內(nèi)膽為不銹鋼316L材料制成;采用C型不銹鋼加熱管,均勻分布在內(nèi)膽外壁,內(nèi)膽內(nèi)無任何電氣配件及易燃易爆裝置;采用鋼化、防彈雙層玻璃觀察窗,便于觀察工作室內(nèi)物品實驗情況。

2)箱門閉合松緊能調(diào)節(jié),整體成型的硅橡膠門封圈,確保箱內(nèi)保持高真空度。

3) 采用微電腦PID控制,系統(tǒng)具有自動控溫,定時,超溫報警等,采用LCD液晶顯示,觸摸式按鈕,簡單易用,性能穩(wěn)定.

4)智能化觸摸屏控制系統(tǒng)配套日本三菱PLC模塊可供用戶根據(jù)不同制程條件改變程序、溫度、真空度及每一程序時間。

5)HMDS氣體密閉式自動吸取添加設(shè)計,使真空箱密封性能極好,確保HMDS氣體無外漏顧慮。

6)整個系統(tǒng)采用優(yōu)質(zhì)醫(yī)用級316L不銹鋼材料制作,無發(fā)塵材料,適用百級光刻間凈化環(huán)境。

三、產(chǎn)品型號及參數(shù):

型號:PVD-090-HMDS

容積:90L

控溫范圍:R.T.+10~250℃

溫度分辨率:0.1℃

控溫精度:±0.5℃

隔板數(shù)量:2PCS

真空度:<133Pa

真空泵:DM4

電源:AC220/50HZ

額定功率:3.0KW

內(nèi)膽尺寸mm:450X450X450

外形尺寸mm:寬650*深640*高910

木箱包裝mm:寬840*深750*高1100

連接管:316不銹鋼波紋管,將真空泵與真空箱完全密封無縫連接

四、PVD-090-HMDS系列預(yù)處理系統(tǒng)的原理:

 PVD-090-HMDS預(yù)處理系統(tǒng)通過對烘箱HMDS預(yù)處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數(shù)可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS,降低了HMDS處理后的硅片接觸角,降低了光刻膠的用量,提高光刻膠與硅片的黏附性。

 

五、PVD-090-HMDS系列預(yù)處理系統(tǒng)的一般工作流程:

首先確定烘箱工作溫度。典型的預(yù)處理程序為:打開真空泵抽真空,待腔內(nèi)真空度達(dá)到某一高真空度后,開始充入氮氣,充到某低真空度后,再次進(jìn)行抽真空、充入氮氣的過程,到達(dá)設(shè)定的充入氮氣次數(shù)后,開始保持一段時間,使硅片充分受熱,減少硅片表面的水分。然后再次開始抽真空,充入HMDS氣體,在到達(dá)設(shè)定時間后,停止充入HMDS藥液,進(jìn)入保持階段,使硅片充分與HMDS反應(yīng)。當(dāng)達(dá)到設(shè)定的保持時間后,再次開始抽真空。充入氮氣,完成整個作業(yè)過程。HMDS與硅片反應(yīng)機(jī)理如圖:首先加熱到100℃-200℃,去除硅片表面的水分,然后HMDS與表面的OH一反應(yīng),在硅片表面生成硅醚,消除氫鍵作,從而使極性表面變成非極性表面。整個反應(yīng)持續(xù)到空間位阻(三甲基硅烷基較大)阻止其進(jìn)一步反應(yīng)。

六、尾氣排放:

多余的HMDS蒸汽(尾氣)將由真空泵抽出,排放到專用廢氣收集管道。在無專用廢氣收集管道時需做專門處理。

七、產(chǎn)品操作控制系統(tǒng)平臺配置:

1.采用DM4直聯(lián)旋片式真空泵

2.采用AISET溫控器控制溫度,日本三菱可編程觸摸屏操作模塊.

3.固態(tài)繼電器

 

其他選配:

1)加急停裝置(標(biāo)配)

2)波紋管2米(標(biāo)配為1米)

3)富士溫控儀表(溫度與PLC聯(lián)動)

4)三色燈

5)增加HMDS液體瓶

6)下箱柜子(304不銹鋼)


公 司 名: 上海實貝儀器設(shè)備廠
企業(yè)類型: 私營企業(yè)
經(jīng)營模式: 生產(chǎn)型
公司地址: 上海市奉賢區(qū)柘林鎮(zhèn)滬杭公路3215號
聯(lián) 系 人: 任俊萍  女士  經(jīng)理
聯(lián)系電話: 021-67109819
傳    真: 021-37526660
手    機(jī): 18918265843
郵    編: 201416
主    頁: http://shshibei.b2b.mydry.cn
           www.shshibei.com.cn
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